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型號：
型號：FDTR
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型號：SN1200-JSL15
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型號：AT-LT
型號：AT650P
型號：AT410/AT610/AT810
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多層審核，注重品質細節，對每一道生產工序負責，對每一位用戶負責，竭誠為用戶提供合格的、可靠的產品。
堅持“客戶至上、誠信至上、用心服務、盡善 盡美”的服務理念，以優良的產品質量和可靠的技術服務受到了用戶的認可。
堅持“以用戶為中心、以人才為根本、努力實現你我共贏”的經營理念，以我們誠信的態度和加倍的努力，與您共同發展。
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2025-07-16 在材料科學研究中，相變過程(如熔融、結晶、玻璃化轉變)的精準觀測是解析材料性能的關鍵，冷熱臺通過可控的溫度環境與光學觀測系統的結合，成為捕捉相變細節的核心工具。...
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臺式ALD設備通過遠程監控與數據管理功能，可實現工藝優化、故障預警及跨實驗室協作。核心功能模塊實時數據訪問：溫度/壓力監測：通過Web界面查看腔體溫度(±0.1℃精度)和反應氣壓力曲線。前驅體消耗量：自動記錄TMA(三甲基鋁)...
鍍膜儀作為薄膜制備的核心設備，其穩定性直接影響涂層質量。長期運行中，設備可能出現真空度不足、鍍膜不均勻或控制系統異常等問題。以下從常見故障現象、排查流程及解決方案三方面展開分析。常見故障現象真空度異常：真空泵抽氣速率下降，導致腔體壓力無法維...
鐵電材料的極化行為強烈依賴溫度，尤其在居里點附近發生鐵電-順電相變。傳統室溫測試難以揭示其全溫域特性，因此，集成溫度控制模塊的鐵電分析儀成為研究相變機制、優化器件工作窗口的重要工具。現代鐵電分析儀通過集成精密溫控平臺(?190℃至+500℃...
2025-08-18 一臺來自哈佛大學的原子層沉積系統一臺科研用的原子層沉積系統一臺備受課題組歡迎的ALD市面上小而美的ALD您值得擁有！！盈思拓(Insontech)----Anr...
查看詳情 桌面原子層沉積系統(ALD)是一種基于表面自限制反應的納米級薄膜沉積設備，適用于實驗室和小規模工業場景，具備高精度、強保形性和廣泛材料兼容性等特點。結構特點(桌面式優勢)小型化設計：體積緊湊(通常為臺式或立式小型機柜)，占用實驗室空間小，無...
微納3D打印機通過逐層沉積實現微米級精度制造，其性能高度依賴材料特性與工藝參數的匹配。主流材料分類與特性光敏樹脂：優點：高分辨率(限制：熱穩定性差(Tg金屬粉末：典型材料：不銹鋼(316L)、鈦合金(Ti6Al4V)。打印要求：粒徑分布需1...
離子濺射儀通過高能離子轟擊靶材表面，實現原子級薄膜沉積。靶材的選擇直接決定涂層的物理化學性能，需綜合考慮材料特性、工藝參數及應用需求。靶材類型與性能匹配金屬靶材(如Au、Al、Cr)：適用于導電性要求高的場景，如電子封裝和光學反射膜。合金靶...
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